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鼻甲肥大-台积电总裁魏哲家:3nm EUV工艺发展顺畅

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7月24日音讯,近来,台积电总裁暨副董事长魏哲家(CC Wei)宣告,其3nm EUV工艺开展顺畅,并现已与前期客户就技能界说进行了触摸。

EUV光刻全称为Extreme Ultraviolet Lithography,是一种极紫外线光刻工艺。芯片制作商经过EUV光刻技能,可以继续出产更小、更快、更强壮的芯片,一起还能有用操控本钱。所以我们熟知的虚拟现实(VR)、自动驾驶、物联网等技能,都有赖于光刻技能的开展。

虽然打破10nm以下的芯片制作工艺,更加困难,可是台积电在该范畴的行进脚步不曾放缓。就在本年4月份的时分,台积电宣告其选用EUV的5nm工艺已处于危险出产阶段,且鼻甲肥大-台积电总裁魏哲家:3nm EUV工艺发展顺畅与7nm工艺比较,相同的Cortex-A72内核完成了1.8倍的密度提高以及15%的速度提高。时隔不到4个月,台积电总裁魏哲家又宣告,他们在N3(3nm工艺)节点的技能开发开展顺畅,且现已开端触摸前期客户。不过,因N3(3nm工艺)技能现在仍处于前期开发阶段,故台积电没有谈及其详细特征及优势。

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鼻甲肥大-台积电总裁魏哲家:3nm EUV工艺发展顺畅

台积电作为全球闻名的半导体合约制作商,关于自己EUV工艺开展表明十分满意,并表明期望3nm制程可以进一步安定其在未来职业之中的领导地位。

本文修改:程金平